Übergabeprotokoll elektro muster

a) Obere und untere Oberflächen sind beide kationselektive Membranen. b) Die unteren Flächen sind mit Membran (ionendurchlässig) und undurchlässigen Bereichen gemustert. In beiden (a,b) stellt das Farbfeld die Artenkonzentration mit helleren (grünen) Farben dar, die höhere Konzentrationen anzeigen. Kationen- und Anionenkonzentrationsfelder sind aufgrund der lokalen Elektroneutralität visuell identisch, wenn sie in dieser Größenordnung dargestellt werden. (c,d) Zeigen Sie auf den Feldern (gelb bzw. blau) vergrößerte Felder mit Ladungsdichte in (a,b) an. Hellgraue Linien sind Strömungsstromlinien und schwarze Linien sind elektrische Feldlinien. Neben dem Verfahren zur Materialentfernung aus dem Substrat, wie oben erläutert, kann die direkte elektromigrationinduzierte Ätzung von opaken Folien von Cr, die auf einem transparenten Glassubstrat abgelagert werden, auch Masken für die Photolithographie erzeugen. So wird ein solches Maskenschreiben zu einem einstufigen Prozess mit Derothrothie. Um diesen Aspekt der elektromigrationinduzierten Radierung und Elektrolithographie zu erforschen, legen wir eine 50 nm dicke Cr-Folie auf einem Glassubstrat ab, ohne eine Polymerschicht dazwischen zu verwenden. Anschließend wird die Cr-Folie selektiv mit Elektromigration geätzt, wodurch diese Regionen optisch transparent sind. Abbildung 6b zeigt eine solche Instanz. Obwohl wir erfolgreich Muster mit diesen elektrogeätzten Masken hergestellt haben, konnten wir ab sofort nur die beste seitenauflösung von wenigen Mikrometern erreichen.

Die schlechte Auflösung für das direkte Maskenschreiben auf Glas im Vergleich zum Beispiel in Abb. 5 wird auf die hervorragende Benetzung zwischen der flüssigen Cr-Verbindung und dem Glassubstrat zurückgeführt. Damit der DNA-Elektrotransfer stattfindet, muss die elektrische Feldstärke größer als ein Mindestwert sein, der dem Elektropermeabilisierungsschwellenwert entspricht [171, 172]. In vitro entspricht der Schwellenwert dem Wert Ef, der eine Permeabilisierung der Seite der Zelle mit Blick auf die Kathode ergibt [171]. Unabhängig von der Zelllebensfähigkeit verbessert die Erhöhung der elektrischen Feldstärke den DNA-Transfer bis zu einem gewissen Grad, bei dem die Transfektionseffizienz wieder abnimmt [172-174]. Dies entspricht Zellviabilitäten zwischen 30% und 80%. Darüber hinaus hat sich gezeigt, dass die Transfektionseffizienz direkt proportional zu (1-Ep/E) ist, was der Definition des elektropermeabilisierten Bereichs entspricht [172]. Je größer die Zelloberfläche in den durchlässigen Zustand gebracht wurde, desto höher ist daher die Transfektionsstufe. Dennoch wird das Zellüberleben direkt durch Elektropermeabilisierung beeinflusst (Abb. 66) [133].

So entsteht ein erfolgreicher Genelektrotransfer, wenn sowohl die Elektropermeabilisierung als auch die Lebensfähigkeit optimal sind. Diese hängen von der elektrischen Feldstärke, der Pulszahl und der Pulsdauer [121, 127, 172] ab. Darüber hinaus spielt der zellphysiologische Zustand eine wichtige Rolle beim Zellüberleben. Auch unter milden Bedingungen kann der Zelltod nach Exposition gegenüber elektrischen Feldern aufgrund eines früheren schlechten physiologischen Zustands wie dem Verlust von Homoeostase oder Membranschäden auftreten. Für In-vitro-Anwendungen wurden lange Pulse (von 1 ms bis 5 ms) und eine Kombination von Hoch- und Niederspannungsimpulsen vorgeschlagen, während für In-vivo-Anwendungen die Zelllebensfähigkeit mit kürzeren Pulsen (von 100 bis 500 s) besser erhalten bleibt [175]. Die Bedeutung der Zellpermeabilisierung wurde auch in vivo mit MRT nachgewiesen [176]. Bereiche, in denen die Permeabilisierung mit Hilfe eines Kontrastmittels nachgewiesen wurde, entsprachen den Bereichen, in denen die Plasmidkodierung für die `-Galactosidase exprimiert wurde. Optimale DNA-Elektrotransferbedingungen hängen vom Zelltyp und dem physiologischen Zustand ab, wie z. B.

der Phase im Zellteilungszyklus [168, 177-180]. Die oben beschriebene Musterung erfolgt mit einem additiven Verfahren (d. h. die Ablagerung eines Materials im gewünschten Muster über dem Substrat). Wir können auch Elektrolithographie für subtraktive Musterung verwenden, indem wir Material aus der Metallschicht entfernen, um direkt auf einem Substrat zu mustern, und einstufige Maskenschrift auf transparentem Substrat, wie unten beschrieben.

Categories:Uncategorised